詳細描述
一、概述:
本產品系統采用了多環控制技術,結構上采取了防鹽霧酸化措施。研制成新一代低壓大電流高頻開關電源,以體積小,重量輕,高效率,高可靠的優越性能成為可控電源的更新換代產品。
二、特點:
●可靠性強,保證設備安全運行,減少故障發生,保護齊全,隔離及防腐措施合理,具備計算機接口功能(可選)
●高穩定性:系統反應速度快,對于網電及負載變化具有極強的適應性,輸出精度可達1%。
●節電效果好:較可控硅整流器可節電15%-30%,對企業降低成本定會發揮重要作用,效率達90%以上。
●體積小、重量輕:體積與重量為可控硅整流器1/5-1/10,便于規劃、擴建、移動和安裝。
●技術含量高,核心部件采用國際專利技術產品,控制電路采用專有技術,穩壓性能強, 所有設備出廠前已經過嚴格檢測和長時間老化試驗,可連續工作達1萬個小時,提高了工作效率。;
三、技術指標:
輸入電壓:380V±10%,額定頻率為50Hz;
輸出電壓:0~24VDC;(高壓可定制)
輸出電流:0~15000ADC;(全范圍可調)
電壓電流精度:1%
四、應用特點:
1、 降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長速度,促使晶核細化。
2、 改善結合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結合。
3、 改善覆蓋能力和分散能力,高的陰極負電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,減緩形態復雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷,對于獲得一個給定特性鍍層(如顏色、無孔隙等)的厚度可減少到原來1/3~1/2,節省原材料。
4、 降低鍍層的內應力,改善晶格缺陷、雜質、空洞、瘤子等,容易得到無裂紋的鍍層,減少添加劑。
5、 有利于獲得成份穩定的合金鍍層。
6、 改善陽極的溶解,不需陽極活化劑。
7、 改進鍍層的機械物理性能,如提高密度降低表面電阻和體電阻,提高韌性、耐磨性、抗蝕性而且可以控制鍍層硬度。
傳統的電鍍抑制副作用的產生、改善電流分布、調節液相傳質過程、控制結晶取向顯得毫無作用,面對絡合劑和添加劑的研究成了電鍍工藝研究的主要方向。納米開關電源解決了傳統整流器存在的缺陷。
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(電流10A~20000A,電壓3V~600V),生產周期一周左右。
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